JP Patent
JP2025528758A — リスペリドン経皮投与システム及びその製造方法と用途
Assigned to Novastage Pharmaceuticals Shenzhen Ltd · Expires 2025-09-02 · 1y expired
What this patent protects
本発明はリスペリドン経皮投与システムに関する。さらに具体的には、本発明は、リスペリドン又はその薬学的に許容可能な塩を、治療有効量の血中薬物濃度で、24時間から14日間の期間に持続的に送達する経皮投与システム及びその製造方法と用途に関する。 【選択図】図4B
USPTO Abstract
本発明はリスペリドン経皮投与システムに関する。さらに具体的には、本発明は、リスペリドン又はその薬学的に許容可能な塩を、治療有効量の血中薬物濃度で、24時間から14日間の期間に持続的に送達する経皮投与システム及びその製造方法と用途に関する。 【選択図】図4B
Drugs covered by this patent
Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.
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