JP Patent
JP2023524626A — ロキサデュスタット及びその中間体の合成方法とその中間体
Assigned to ジャンプカン(シャンハイ)メディカル テクノロジー カンパニー リミテッド · Expires 2023-06-13 · 3y expired
What this patent protects
本発明は、ロキサデュスタット及びその中間体の合成方法とその中間体を開示する。具体的には、本発明は、化合物M1の合成方法を開示し、当該方法は、酸化剤の作用下で、化合物SM及び化合物SM-Aを以下で示される反応を実行させる工程を含む。本発明の方法は、原材料が安価で容易に入手可能であり、反応工程が短く、収率が高く、後処理手順が簡単で、産業化生産に適している。
USPTO Abstract
本発明は、ロキサデュスタット及びその中間体の合成方法とその中間体を開示する。具体的には、本発明は、化合物M1の合成方法を開示し、当該方法は、酸化剤の作用下で、化合物SM及び化合物SM-Aを以下で示される反応を実行させる工程を含む。本発明の方法は、原材料が安価で容易に入手可能であり、反応工程が短く、収率が高く、後処理手順が簡単で、産業化生産に適している。
Drugs covered by this patent
Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.
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