JP2016006025A — 医薬用組成物及びその製造方法、並びに口腔内崩壊錠及びその製造方法
Assigned to Fujifilm Corp · Expires 2016-01-14 · 10y expired
What this patent protects
【課題】テルミサルタンが有する苦味をマスキングすることができ、かつ、ｐＨ３．５付近でのテルミサルタンの溶出性の低下を抑制し得る医薬用組成物及びその製造方法、並びに口腔内崩壊錠及びその製造方法の提供。 【解決手段】原薬含有粒子と、原薬含有粒子を被覆する被覆層とを有し、テルミサルタンと、アミノアルキルメタクリレートコポリマーＥと、非イオン性界面活性剤とを含み、原薬含有粒子中にテルミサルタンを含み、かつ、被覆層中にアミノアルキルメタクリレートコポリマーＥを含む医薬用組成物及びその応用。 【選択図】図１
USPTO Abstract
【課題】テルミサルタンが有する苦味をマスキングすることができ、かつ、ｐＨ３．５付近でのテルミサルタンの溶出性の低下を抑制し得る医薬用組成物及びその製造方法、並びに口腔内崩壊錠及びその製造方法の提供。 【解決手段】原薬含有粒子と、原薬含有粒子を被覆する被覆層とを有し、テルミサルタンと、アミノアルキルメタクリレートコポリマーＥと、非イオン性界面活性剤とを含み、原薬含有粒子中にテルミサルタンを含み、かつ、被覆層中にアミノアルキルメタクリレートコポリマーＥを含む医薬用組成物及びその応用。 【選択図】図１
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Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.
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