JP2015200016A — 水分解用光電極、水分解装置
Assigned to Fujifilm Corp · Expires 2015-11-12 · 11y expired
What this patent protects
【課題】良好なオンセットポテンシャルを示す、水分解用光電極を提供する。 【解決手段】支持体と、支持体上に配置され、可視光を吸収し、周期律表の第４Ａ族元素、第５Ａ族元素、第６Ａ族元素、第１Ｂ族元素、第２Ｂ族元素、第３Ｂ族元素、および第４Ｂ族元素からなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を有する光半導体を含む光触媒層と、光触媒層上に配置され、原子層堆積法を用いて形成された、金属酸化物半導体を含む被覆層と、を有し、被覆層の厚みが３〜４０ｎｍである、水分解用光電極。 【選択図】なし
USPTO Abstract
【課題】良好なオンセットポテンシャルを示す、水分解用光電極を提供する。 【解決手段】支持体と、支持体上に配置され、可視光を吸収し、周期律表の第４Ａ族元素、第５Ａ族元素、第６Ａ族元素、第１Ｂ族元素、第２Ｂ族元素、第３Ｂ族元素、および第４Ｂ族元素からなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を有する光半導体を含む光触媒層と、光触媒層上に配置され、原子層堆積法を用いて形成された、金属酸化物半導体を含む被覆層と、を有し、被覆層の厚みが３〜４０ｎｍである、水分解用光電極。 【選択図】なし
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