JP Patent

JP2013254084A — フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体、化合物及び化合物の製造方法

Assigned to JSR Corp · Expires 2013-12-19 · 12y expired

What this patent protects

【課題】ＬＷＲ性能、解像性、断面形状の矩形性及び焦点深度に優れるフォトレジスト組成物の提供。 【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位を有する重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。 【選択図】なし

USPTO Abstract

【課題】ＬＷＲ性能、解像性、断面形状の矩形性及び焦点深度に優れるフォトレジスト組成物の提供。 【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位を有する重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。 【選択図】なし

Drugs covered by this patent

Patent Metadata

Patent number
JP2013254084A
Jurisdiction
JP
Classification
—
Expires
2013-12-19
Drug substance claim
No
Drug product claim
No
Assignee
JSR Corp
Source
FDA Orange Book + USPTO grounding via Google Patents

Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.

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