JP2012520876A — 光線力学殺菌用の組成物
Assigned to オンディーヌ インターナショナル リミテッド · Expires 2012-09-10 · 14y expired
What this patent protects
本発明は、感光剤および少なくとも１種のパラベンを含む組成物を使用して、パラベン相乗作用に受容性を有するグラム陰性有機体に対する光線力学殺菌の抗菌有効性を向上させるための組成物を含む。また、本発明は、前記組成物を所望の処置領域に適用するステップと、前記処置領域内に存在し、パラベン相乗作用に受容性を有するグラム陰性有機体を阻害するために、前記感光剤によって吸収される波長で前記所望の処置領域に光を照射するステップと、を含む光線力学殺菌のための方法である。
USPTO Abstract
本発明は、感光剤および少なくとも１種のパラベンを含む組成物を使用して、パラベン相乗作用に受容性を有するグラム陰性有機体に対する光線力学殺菌の抗菌有効性を向上させるための組成物を含む。また、本発明は、前記組成物を所望の処置領域に適用するステップと、前記処置領域内に存在し、パラベン相乗作用に受容性を有するグラム陰性有機体を阻害するために、前記感光剤によって吸収される波長で前記所望の処置領域に光を照射するステップと、を含む光線力学殺菌のための方法である。
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