JP Patent
JP2012511023A — テクネチウム−及びレニウム−ビス(ヘテロアリール)錯体及びpsmaを阻害するその使用方法
Assigned to モレキュラ インサイト ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド · Expires 2012-05-17 · 14y expired
What this patent protects
式Iの化合物、その薬学的に許容可能な塩、又は溶媒和化合物は、レニウム、テクネチウム、又は他の金属と錯化して、特に金属が放射性である場合、組織を撮像する又は疾患を治療する錯体を提供する。このような錯体はPSMAタンパク質に特異的であり、したがって前立腺の癌及び該タンパク質が発現する他の組織の撮像又は処置に使用することができる。 【選択図】図1
USPTO Abstract
式Iの化合物、その薬学的に許容可能な塩、又は溶媒和化合物は、レニウム、テクネチウム、又は他の金属と錯化して、特に金属が放射性である場合、組織を撮像する又は疾患を治療する錯体を提供する。このような錯体はPSMAタンパク質に特異的であり、したがって前立腺の癌及び該タンパク質が発現する他の組織の撮像又は処置に使用することができる。 【選択図】図1
Drugs covered by this patent
Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.
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