JP Patent
JP2011510907A — 尋常性ざ瘡の長期間の処置のためのアダパレンおよび過酸化ベンゾイルの使用
Assigned to ガルデルマ・リサーチ・アンド・デヴェロップメント · Expires 2011-04-07 · 15y expired
What this patent protects
尋常性ざ瘡の長期間の処置のためのアダパレンおよび過酸化ベンゾイルの使用。本発明は、尋常性ざ瘡の長期間の処置を提供するために、および尋常性ざ瘡の長期間の処置の方法を提供するために、それを必要とする患者に投与するための局所薬剤の調製におけるアダパレンおよび過酸化ベンゾイルを含む組成物の使用に関する。
USPTO Abstract
尋常性ざ瘡の長期間の処置のためのアダパレンおよび過酸化ベンゾイルの使用。本発明は、尋常性ざ瘡の長期間の処置を提供するために、および尋常性ざ瘡の長期間の処置の方法を提供するために、それを必要とする患者に投与するための局所薬剤の調製におけるアダパレンおよび過酸化ベンゾイルを含む組成物の使用に関する。
Drugs covered by this patent
Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.
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