JP Patent

JP2008538560A — 超高純度の４−メチルピラゾール

Assigned to オーファン メディカル，インコーポレイティド · Expires 2008-10-30 · 18y expired

What this patent protects

ピラゾールを0．1％未満、ならびに、ヒドラジン、および、ニトロベンズアルデヒドを各々10ppm未満含む超高純度の4-メチルピラゾールが開示されている。超高純度の4-メチルピラゾールは、エチルビニルエーテルを0.01%未満にするような新規なプロセスで調製される。 【選択図】なし

USPTO Abstract

ピラゾールを0．1％未満、ならびに、ヒドラジン、および、ニトロベンズアルデヒドを各々10ppm未満含む超高純度の4-メチルピラゾールが開示されている。超高純度の4-メチルピラゾールは、エチルビニルエーテルを0.01%未満にするような新規なプロセスで調製される。 【選択図】なし

Drugs covered by this patent

Patent Metadata

Patent number
JP2008538560A
Jurisdiction
JP
Classification
—
Expires
2008-10-30
Drug substance claim
No
Drug product claim
No
Assignee
オーファン メディカル，インコーポレイティド
Source
FDA Orange Book + USPTO grounding via Google Patents

Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.

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