JP Patent

JP2004207145A — 放電プラズマ処理装置

Assigned to Sekisui Chemical Co Ltd · Expires 2004-07-22 · 22y expired

What this patent protects

【課題】リモート方式の放電プラズマ処理装置に用いられる放電電極において、放電時における電極本体の撓みをなくす。 【解決手段】互いに対向する一対の電極本体2,3間に、ガスの通過が可能な連通孔を有する多孔質誘電体4を挟み、その多孔質誘電体4をガス流路兼プラズマ発生空間とすることにより、放電プラズマを発生するのに必要なガス流量を実現しながら、放電時において電極本体2,3間に作用するクーロン力による電極本体2,3の撓みを防止する。 【選択図】図1

USPTO Abstract

【課題】リモート方式の放電プラズマ処理装置に用いられる放電電極において、放電時における電極本体の撓みをなくす。 【解決手段】互いに対向する一対の電極本体2,3間に、ガスの通過が可能な連通孔を有する多孔質誘電体4を挟み、その多孔質誘電体4をガス流路兼プラズマ発生空間とすることにより、放電プラズマを発生するのに必要なガス流量を実現しながら、放電時において電極本体2,3間に作用するクーロン力による電極本体2,3の撓みを防止する。 【選択図】図1

Drugs covered by this patent

Patent Metadata

Patent number
JP2004207145A
Jurisdiction
JP
Classification
Expires
2004-07-22
Drug substance claim
No
Drug product claim
No
Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Source
FDA Orange Book + USPTO grounding via Google Patents

Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.

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