JP Patent

JP2004203749A — SiH基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法

Assigned to Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd · Expires 2004-07-22 · 22y expired

What this patent protects

【課題】安定的にSiH基を含有する含窒素有機系化合物を製造できる手段を提供すること。 【解決手段】SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する含窒素有機化合物(A)とSiH基を1分子中に少なくとも2個含有する化合物(B)を金属原子を含有するヒドロシリル化触媒(C)及び酸素(D)の存在下で反応槽内において反応させてSiH基を含有する含窒素有機系化合物を製造する際に、前記反応槽中の反応液を前記反応槽の上部空間へ導入する。 【選択図】なし

USPTO Abstract

【課題】安定的にSiH基を含有する含窒素有機系化合物を製造できる手段を提供すること。 【解決手段】SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する含窒素有機化合物(A)とSiH基を1分子中に少なくとも2個含有する化合物(B)を金属原子を含有するヒドロシリル化触媒(C)及び酸素(D)の存在下で反応槽内において反応させてSiH基を含有する含窒素有機系化合物を製造する際に、前記反応槽中の反応液を前記反応槽の上部空間へ導入する。 【選択図】なし

Drugs covered by this patent

Patent Metadata

Patent number
JP2004203749A
Jurisdiction
JP
Classification
Expires
2004-07-22
Drug substance claim
No
Drug product claim
No
Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Source
FDA Orange Book + USPTO grounding via Google Patents

Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.

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