JP2003252737A — 口腔用組成物
Assigned to Shin Etsu Chemical Co Ltd · Expires 2003-09-10 · 23y expired
What this patent protects
(57)【要約】 【課題】 適したチキソトロピー性を有し、経時的に安 定で、かつ使用感が良好な口腔用組成物及びその製造方 法を提供する。 【解決手段】 粒子が膨潤状態で均一に分散されている モル置換度０．５〜１．０の低置換度ヒドロキシプロピ ルセルロースを含有する口腔用組成物を提供する。ま た、モル置換度０．５〜１．０の低置換度ヒドロキシプ ロビルセルロース粉末を懸濁した液を剪断摩砕する口腔 用組成物の製造方法、及び、水に溶解しないがアルカリ に溶解するモル置換度０．５〜１．０の低置換度ヒドロ キシプロピルセルロースをアルカリ水溶液に溶解する工 程と…
USPTO Abstract
(57)【要約】 【課題】 適したチキソトロピー性を有し、経時的に安 定で、かつ使用感が良好な口腔用組成物及びその製造方 法を提供する。 【解決手段】 粒子が膨潤状態で均一に分散されている モル置換度０．５〜１．０の低置換度ヒドロキシプロピ ルセルロースを含有する口腔用組成物を提供する。ま た、モル置換度０．５〜１．０の低置換度ヒドロキシプ ロビルセルロース粉末を懸濁した液を剪断摩砕する口腔 用組成物の製造方法、及び、水に溶解しないがアルカリ に溶解するモル置換度０．５〜１．０の低置換度ヒドロ キシプロピルセルロースをアルカリ水溶液に溶解する工 程と、酸を加えて中和しながら又は酸を加えて中和した 後、剪断摩砕する工程とを含む口腔用組成物の製造方法 を提供する。
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