JP2002182254A — 非線形光学材料とその製造方法
Assigned to Fujifilm Holdings Corp · Expires 2002-06-26 · 24y expired
What this patent protects
(57)【要約】 【課題】 配向緩和のない、あるいは抑えられた非線形 光学材料、およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 電極部、非線形光学応答部、電極部から なる非線形光学材料において、少なくとも一つの架橋反 応可能な官能基と非線形光学応答基を同時に有する分子 と複数個の架橋反応可能な官能基を同時に有する液晶分 子を構成成分の一部として含有してなる層を外部電場、 または外部磁場印加下において架橋反応を行うことによ り非線形光学応答部を電極部上、または電極部と電極部 の間に設けた非線形光学材料、及びその製造方法。
USPTO Abstract
(57)【要約】 【課題】 配向緩和のない、あるいは抑えられた非線形 光学材料、およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 電極部、非線形光学応答部、電極部から なる非線形光学材料において、少なくとも一つの架橋反 応可能な官能基と非線形光学応答基を同時に有する分子 と複数個の架橋反応可能な官能基を同時に有する液晶分 子を構成成分の一部として含有してなる層を外部電場、 または外部磁場印加下において架橋反応を行うことによ り非線形光学応答部を電極部上、または電極部と電極部 の間に設けた非線形光学材料、及びその製造方法。
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