JP2001139981A — 高度不飽和脂肪酸誘導体の製造方法及び高純度エイコサペンタエン酸誘導体

USPTO Abstract

(57)【要約】 【課題】特に、熱異性化物の生成を抑制して、高純度状 態で得られる高度不飽和脂肪酸誘導体の製造方法及び拮 抗作用の少ない高純度エイコサペンタエン酸誘導体を提 供すること。 【解決手段】移動相として超臨界二酸化炭素、固定相と してシリカゲルを用いた超臨界クロマトグラフィーによ って分離精製し、高度不飽和脂肪酸誘導体を製造する方 法であって、(ａ)原料として、炭素数が同一で二重結合 数が異なる高度不飽和脂肪酸又はそのアルキルエステル を含む混合物を用い、(ｂ)シリカゲルが、粒径4.0〜25. 0μｍ、細孔径0.005〜0.015μｍ、細孔容積0.65〜1.10 ｍｌ／ｇ、且つ比表面積250〜650ｍ 2 ／ｇであり、(ｃ) 運転条件が、圧力100〜130ｋｇ／ｃｍ 2 、温度30〜60 ℃、線速度10〜70ｃｍ／分である製造方法及びこの方法 で得られる高純度エイコサペンタエン酸誘導体。