JP2000016997A — ジホスフィンオキシドの新規な製造方法

USPTO Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】不斉合成反応触媒である金属錯体の配位子用の ジホスフィン化合物の製造中間体であるジホスフィンオ キシド化合物及びホスフィンオキシド化合物の簡便な製 造方法を提供する。 【解決手段】一般式２ （Ｒ 1 はシクロアルキル、置換又は非置換のフェニル、 ナフチル、ピリジル、キノリル、イソキノリル、フルフ リル、ベンゾフルフリル、チエニル又はベンゾチエニル 基、Ｒ 2 は低級アルキル、低級エーテル、ハロゲン化低 級アルキル又はフェニル基、Ｘはヘテロ原子、Ｒ 3 とＲ 4 は独立に水素、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコ シキ、ジ低級アルキルアミノ、ハロゲン化低級アルキル 又はフェニル基、Ｒ 2 とＲ 3 あるいはＲ 3 とＲ 4 は互い に連結して環を形成してもよい。）のホスフィンオキシ ド化合物を塩基で処理後、酸化剤を用いて二量化してジ ホスフィンオキシド化合物を得る。