CN119643609A — 一种晶相杂质的分析方法
Assigned to Beijing Hrdx Medicinal Technologies Co ltd · Expires 2025-03-18 · 1y expired
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本发明提供了一种晶相杂质的分析方法，属于分析化学技术领域。本发明获取待测环硅酸锆钠样品的X‑射线衍射图谱；根据晶相杂质的标准曲线或标准方程与所述待测环硅酸锆钠样品的X‑射线衍射图谱，得到待测环硅酸锆钠样品中晶相杂质的含量；所述标准曲线根据标准曲线样品中晶相杂质和环硅酸锆钠质量的比值，以及标准曲线样品的X‑射线衍射图谱中晶相杂质和环硅酸锆钠特征衍射峰衍射强度的比值拟合得到；所述标准方程为所述标准曲线对应的线性方程；所述标准曲线样品为空白环硅酸锆钠样品与晶相杂质对照品的混合物。采用本发明方法能够简便快速且准确的检测环硅酸锆钠中晶相杂质如CPA和CPB的含量。
USPTO Abstract
本发明提供了一种晶相杂质的分析方法，属于分析化学技术领域。本发明获取待测环硅酸锆钠样品的X‑射线衍射图谱；根据晶相杂质的标准曲线或标准方程与所述待测环硅酸锆钠样品的X‑射线衍射图谱，得到待测环硅酸锆钠样品中晶相杂质的含量；所述标准曲线根据标准曲线样品中晶相杂质和环硅酸锆钠质量的比值，以及标准曲线样品的X‑射线衍射图谱中晶相杂质和环硅酸锆钠特征衍射峰衍射强度的比值拟合得到；所述标准方程为所述标准曲线对应的线性方程；所述标准曲线样品为空白环硅酸锆钠样品与晶相杂质对照品的混合物。采用本发明方法能够简便快速且准确的检测环硅酸锆钠中晶相杂质如CPA和CPB的含量。
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