CN Patent

CN117567414B — 一种光电材料中间体1-溴二苯并呋喃的合成方法

Assigned to Henan Huicheng New Materials Co ltd · Expires 2026-01-23 · 0y expired

What this patent protects

本发明公开了一种光电材料中间体1‑溴二苯并呋喃的合成方法。该合成方法以间溴苯甲醚为起始原料,加入二异丙基氨基锂、邻氟硝基苯反应得到2‑溴‑6‑甲氧基‑2 , ‑硝基联苯,再经铁粉还原成胺,最后加入硫酸、亚硝酸钠做成重氮盐关环制备而成。利用本发明合成中间体1‑溴二苯并呋喃,由起始原料合成至最终产品,中间不需进行纯化,减少中间产品的损失,产品收率高,综合收率达到78%以上;本发明合成方法中,采用的原料简单易得,无污染性较强物料的使用,后处理操作简单易行,适合工业化生产。

USPTO Abstract

本发明公开了一种光电材料中间体1‑溴二苯并呋喃的合成方法。该合成方法以间溴苯甲醚为起始原料,加入二异丙基氨基锂、邻氟硝基苯反应得到2‑溴‑6‑甲氧基‑2 , ‑硝基联苯,再经铁粉还原成胺,最后加入硫酸、亚硝酸钠做成重氮盐关环制备而成。利用本发明合成中间体1‑溴二苯并呋喃,由起始原料合成至最终产品,中间不需进行纯化,减少中间产品的损失,产品收率高,综合收率达到78%以上;本发明合成方法中,采用的原料简单易得,无污染性较强物料的使用,后处理操作简单易行,适合工业化生产。

Drugs covered by this patent

Patent Metadata

Patent number
CN117567414B
Jurisdiction
CN
Classification
Expires
2026-01-23
Drug substance claim
No
Drug product claim
No
Assignee
Henan Huicheng New Materials Co ltd
Source
FDA Orange Book + USPTO grounding via Google Patents

Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.

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