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CN116496206A — 一种雷芬那辛杂质ii及其制备方法

Assigned to Standard Pharmacopoeia Reference Material Development Hubei Co ltd · Expires 2023-07-28 · 3y expired

What this patent protects

本发明属于雷芬那辛领域，该发明公开一种雷芬那辛杂质II及其制备方法，该方法以化合物I哌啶‑4‑基[1,1'‑联苯]‑2‑基氨基甲酸酯为原料，经一步反应合成该杂质。该方法包括如下步骤：将化合物I与缩合剂HATU反应，得到雷芬那辛杂质II。本发明合成路线设计合理，后处理简单，反应条件温和，可操作性强。本发明制备得到的雷芬那辛杂质II，可作为雷芬那辛成品检测分析的杂质标准品，从而提升雷芬那辛成品检测分析对杂质II的准确定位和定性，有利于加强对该杂质的控制，进而提高雷芬那辛成品质量。

USPTO Abstract

本发明属于雷芬那辛领域，该发明公开一种雷芬那辛杂质II及其制备方法，该方法以化合物I哌啶‑4‑基[1,1'‑联苯]‑2‑基氨基甲酸酯为原料，经一步反应合成该杂质。该方法包括如下步骤：将化合物I与缩合剂HATU反应，得到雷芬那辛杂质II。本发明合成路线设计合理，后处理简单，反应条件温和，可操作性强。本发明制备得到的雷芬那辛杂质II，可作为雷芬那辛成品检测分析的杂质标准品，从而提升雷芬那辛成品检测分析对杂质II的准确定位和定性，有利于加强对该杂质的控制，进而提高雷芬那辛成品质量。

Drugs covered by this patent

Patent Metadata

Patent number
CN116496206A
Jurisdiction
CN
Classification
—
Expires
2023-07-28
Drug substance claim
No
Drug product claim
No
Assignee
Standard Pharmacopoeia Reference Material Development Hubei Co ltd
Source
FDA Orange Book + USPTO grounding via Google Patents

Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.

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