CN115448927A — 一种氢溴酸依匹斯汀晶型ii及其制备方法
Assigned to Chongqing Ruipolai Pharmaceutical Technology Co ltd · Expires 2022-12-09 · 3y expired
What this patent protects
本发明公开一种氢溴酸依匹斯汀晶型II,其X射线粉末衍射在2θ值为7.7±0.2 0 、9.6±0.2 0 、14.3±0.2 0 、21.2±0.2 0 、25.5±0.2 0 处有特征峰。本发明氢溴酸依匹斯汀晶型II具有良好的稳定性,即使在温度T=40℃和相对湿度RH=75%的加速实验条件下放置30天,杂质含量也基本没有变化,因而更有利于药物贮存、运输,保障了临床用药的安全。本发明氢溴酸依匹斯汀晶型II制备方法简单,适合工业化生产。
USPTO Abstract
本发明公开一种氢溴酸依匹斯汀晶型II,其X射线粉末衍射在2θ值为7.7±0.2 0 、9.6±0.2 0 、14.3±0.2 0 、21.2±0.2 0 、25.5±0.2 0 处有特征峰。本发明氢溴酸依匹斯汀晶型II具有良好的稳定性,即使在温度T=40℃和相对湿度RH=75%的加速实验条件下放置30天,杂质含量也基本没有变化,因而更有利于药物贮存、运输,保障了临床用药的安全。本发明氢溴酸依匹斯汀晶型II制备方法简单,适合工业化生产。
Drugs covered by this patent
Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.
Track this patent
Get a daily-checked alert when vulnerability score, expiry, classification, or assignee changes. Email, Slack, or Teams delivery. Pro: 50 watches, Free: 3.