CN110269846A — 一种低频脉冲电场响应的靶向释药体系
Assigned to Shanghai Institute of Ceramics of CAS · Expires 2019-09-24 · 7y expired
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本发明提供一种低频脉冲电场响应的靶向释药体系。所述靶向释药体系含有功能聚合物包覆的介孔二氧化硅纳米粒子、链接在功能聚合物包覆的介孔二氧化硅纳米粒子表面的靶向功能分子、和装载于所述功能聚合物包覆的介孔二氧化硅纳米粒子的孔道中的药物，所述靶向释药体系含有功能聚合物包覆的介孔二氧化硅纳米粒子的质量占所述靶向释药体系总质量的67%～85%，所述靶向功能分子的质量占所述靶向释药体系总质量的15%～33.3%，所述药物占所述靶向释药体系总质量的5%～25%，所述靶向释药体系通过低频脉冲电场控制药物释放。
USPTO Abstract
本发明提供一种低频脉冲电场响应的靶向释药体系。所述靶向释药体系含有功能聚合物包覆的介孔二氧化硅纳米粒子、链接在功能聚合物包覆的介孔二氧化硅纳米粒子表面的靶向功能分子、和装载于所述功能聚合物包覆的介孔二氧化硅纳米粒子的孔道中的药物，所述靶向释药体系含有功能聚合物包覆的介孔二氧化硅纳米粒子的质量占所述靶向释药体系总质量的67%～85%，所述靶向功能分子的质量占所述靶向释药体系总质量的15%～33.3%，所述药物占所述靶向释药体系总质量的5%～25%，所述靶向释药体系通过低频脉冲电场控制药物释放。
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