CN107663171A — 高纯度托伐普坦的制备方法
Assigned to CHANGZHOU SUNLIGHT PHARMACEUTICAL Co Ltd · Expires 2018-02-06 · 8y expired
What this patent protects
本发明公开了一种高纯度托伐普坦的制备方法，它是用二氢双（2‑甲氧基乙氧基）铝酸钠还原N‑[4‑[(5R)‑7‑氯‑5‑氧代‑2,3,4,5‑四氢‑1‑苯并氮杂卓‑1‑甲酰基]‑3‑甲基苯基]‑2‑甲基苯甲酰胺，得到纯度≥99.95%的高纯度托伐普坦。本发明采用二氢双（2‑甲氧基乙氧基）铝酸钠作为N‑[4‑[(5R)‑7‑氯‑5‑氧代‑2,3,4,5‑四氢‑1‑苯并氮杂卓‑1‑甲酰基]‑3‑甲基苯基]‑2‑甲基苯甲酰胺还原制备托伐普坦的还原剂，能够极其有效地抑制脱氯杂质Ⅳ的产生，最终能够得到纯度≥99.95%的高纯度托伐普坦，而采用四氢呋喃或者甲基四氢呋喃…
USPTO Abstract
本发明公开了一种高纯度托伐普坦的制备方法，它是用二氢双（2‑甲氧基乙氧基）铝酸钠还原N‑[4‑[(5R)‑7‑氯‑5‑氧代‑2,3,4,5‑四氢‑1‑苯并氮杂卓‑1‑甲酰基]‑3‑甲基苯基]‑2‑甲基苯甲酰胺，得到纯度≥99.95%的高纯度托伐普坦。本发明采用二氢双（2‑甲氧基乙氧基）铝酸钠作为N‑[4‑[(5R)‑7‑氯‑5‑氧代‑2,3,4,5‑四氢‑1‑苯并氮杂卓‑1‑甲酰基]‑3‑甲基苯基]‑2‑甲基苯甲酰胺还原制备托伐普坦的还原剂，能够极其有效地抑制脱氯杂质Ⅳ的产生，最终能够得到纯度≥99.95%的高纯度托伐普坦，而采用四氢呋喃或者甲基四氢呋喃作为反应溶剂能够获得90%以上的高收率。
Drugs covered by this patent
- Samsca (TOLVAPTAN) · Otsuka
Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.
Track this patent
Get a daily-checked alert when vulnerability score, expiry, classification, or assignee changes. Email, Slack, or Teams delivery. Pro: 50 watches, Free: 3.