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CN104478839A — 一种达格列净的合成方法

Assigned to Suzhou Jonathan New Materials Technology Co Ltd · Expires 2015-04-01 · 11y expired

What this patent protects

本发明提一种达格列净的合成方法，合成路线如下： 包括以下步骤：(1)原料1经傅克酰基化反应生成化合物2；(2)化合物2经还原反应生成化合物3；(3)化合物3与化合物4经缩合反应生成化合物5；(4)化合物5脱甲氧基生成化合物6；(5)化合物6脱保护生成化合物7。本发明提供的达格列净的合成方法至少具有以下有益效果：操作步骤简单，反应条件温和，产品易于提取分离，收率高，大幅降低了生产成本，有利于产业化生产。

USPTO Abstract

本发明提一种达格列净的合成方法，合成路线如下： 包括以下步骤：(1)原料1经傅克酰基化反应生成化合物2；(2)化合物2经还原反应生成化合物3；(3)化合物3与化合物4经缩合反应生成化合物5；(4)化合物5脱甲氧基生成化合物6；(5)化合物6脱保护生成化合物7。本发明提供的达格列净的合成方法至少具有以下有益效果：操作步骤简单，反应条件温和，产品易于提取分离，收率高，大幅降低了生产成本，有利于产业化生产。

Drugs covered by this patent

Patent Metadata

Patent number
CN104478839A
Jurisdiction
CN
Classification
—
Expires
2015-04-01
Drug substance claim
No
Drug product claim
No
Assignee
Suzhou Jonathan New Materials Technology Co Ltd
Source
FDA Orange Book + USPTO grounding via Google Patents

Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.

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