CN Patent
CN103232507B — 修饰核苷单体及其合成方法和应用
Assigned to Peking University · Expires 2016-07-06 · 10y expired
What this patent protects
本发明公开了两类修饰核苷单体及其合成方法和应用,本发明提供的两类新的修饰核苷单体,具有如式I或式II的结构,本发明还提供其合成方法,并且该单体能够方便地用于与多肽共价缀合的寡核苷酸的固相合成中,并且在多肽和寡核苷酸之间构建二硫连接基或三氮唑连接基。采用本发明所提供的修饰核苷单体进行与多肽共价缀合的寡核苷酸的合成,具有反应特异性强、载量相对高及操作简便等优点。
USPTO Abstract
本发明公开了两类修饰核苷单体及其合成方法和应用,本发明提供的两类新的修饰核苷单体,具有如式I或式II的结构,本发明还提供其合成方法,并且该单体能够方便地用于与多肽共价缀合的寡核苷酸的固相合成中,并且在多肽和寡核苷酸之间构建二硫连接基或三氮唑连接基。采用本发明所提供的修饰核苷单体进行与多肽共价缀合的寡核苷酸的合成,具有反应特异性强、载量相对高及操作简便等优点。
Drugs covered by this patent
- Veklury (remdesivir) · Gilead Sciences
Bibliographic data sourced from FDA Orange Book + USPTO public records. Plain-English summary generated by AI grounded in source text. Patent term extensions (PTR, SPC, pediatric) may shift the effective expiry. Not legal advice.
Track this patent
Get a daily-checked alert when vulnerability score, expiry, classification, or assignee changes. Email, Slack, or Teams delivery. Pro: 50 watches, Free: 3.